氧化多孔硅相关论文
用一种聚合物材料薄膜作为掩膜 ,通过在电化学腐蚀过程中控制腐蚀电流和时间 ,首次制备出了氧化多孔硅波导定向耦合器。实验中用波......
为了发展性能良好的固体染料激光器，多孔介质中镶嵌激光染料是一种可行的途径。将氧化多孔硅作为基质材料，通过浸泡的方式将激光染料......
给出了一种厚膜氧化多孔硅(OPS)层上制作Cu电感的新型工艺技术.由于OPS是一种低损耗的材料,铜的电阻率很低,采用OPS隔离硅衬底和Cu......
通过简单的溶液浸泡一热分解方法成功地在氧化多孔硅的孔中沉积了纳米银粒子，形成了银／氧化多孔硅／硅的复合结构．用X射线衍射光谱（XRD）和......
用一种聚合物材料薄膜作为掩膜,通过在电化学腐蚀过程中控制腐蚀电流和时间,首次制备出了氧化多孔硅波导定向耦合器.实验中用波长......
提出了一种基于氧化多孔硅厚膜隔离技术的Cu电感.厚膜隔离层降低了电感的衬底损耗,提高了电感的Q值.实验中通过多孔硅氧化和电镀Cu......
期刊
用氧化多孔硅的方法来制备厚的ＳｉＯ２成本低，省时，氧化硅膜的厚度，表面粗糙度和组分这三个参数，对滤导器件的性能有重要影响，扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、......
对N+型硅衬底上用于衬底隔离的选择性氧化多孔硅厚膜的制备进行了研究.实验过程中通过控制阳极氧化反应中HF溶液的浓度、电流密度......
利用多孔硅在阳极腐蚀过程中外加的光照度与孔隙率的对应关系,提出了一种利用光照控制多孔硅折射率的方法制备通道型光波导技术.对......
用Bruggeman模型理论，分析了氧化多孔硅／聚合物复合膜的等效折射率与多孔硅孔隙率、氧化度和嵌入率的关系，实验研究了嵌入PMMA材料的......
提出了一种新的工艺方法制备硅基电容式微传声器．用氧化多孔硅作牺牲层制备空气隙，用约15μm厚的浓硼掺杂硅作为微传声器的刚性背极......
提出一种新的牺牲层工艺.先将阳极氧化生成的多孔硅在 300℃的氮气氛下进行退火以稳定其多孔结构,然后将其在 700℃下氧化成为具有......
利用阳极氧化法制备了5种光致发光峰位不同的多孔硅,对该系列样品于400℃氧化处理1,2,4,8min和24min.通过研究其光致发光谱、红外......
对发射蓝光的多孔硅和氧化硅样品分别作了光致和光致发光激发光谱的对比研究，结果表明，当氧化温度达到1150℃时，多孔硅中的纳米硅粒完......
在适当条件下氧化多孔硅是提高多孔硅发光强度的良好途径.首次采用含CH3CSNH2的HF酸水溶液作为氧化剂对初始多孔硅进行了湿法阳极......
报道了用两束相干激光在HF溶液中的多孔Si(PS)表面上干涉形成光强周期分布,通过光溶解得到了孔隙率周期变化的结构,从而制备出氧化......
由于在低阻Si衬底上制作微波无源器件的损耗极大,且衬底电阻率越低,损耗越大,且所制作的Si器件的工作频率受到了限制,因此几乎无法......
给出了利用选择性的电化学腐蚀过程制备氧化多孔硅光波导棱镜的方法,分别制备出基于多孔硅的汇聚和发散透镜.这类波导棱镜可以明显......
