离子束清洗相关论文
用End-Hall型离子源进行了离子束清洗在激光薄膜中的应用研究.通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗......
本文围绕离子束技术在高功率激光薄膜制备中的应用，以“认识离子束技术、研究和使用离子束技术”为线索展开。 本文首先介绍了不......
离子束技术是目前薄膜制备中广泛应用的一类技术，根据施加在薄膜制备的前、中、后三个阶段分别称为离子束清洗、离子束辅助沉积和离......
主要通过调整离子束清洗时间、清洗气氛、清洗功率(电流)等工艺参数,并结合OSR的膜层附着力测试以及光学性能测试,研究了离子束清......
本文介绍了一种新的ＪＧＰ－６００型磁控溅射沉积薄膜装置。该装置采用射频和直流兼容的磁控溅射靶，靶－基距可以在工作时调节，ＫＡＵＦＭＡＮ源离子束清洗，涡轮分子......
介绍了在激光薄膜中End Hall型离子源离子束清洗的应用。通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后......
通过先后调整溅射沉积时间、溅射功率以及溅射气压等镀膜参数,然后结合所镀样品的反射率测量,分析了镀膜参数对铝膜反射率的影响;......
KH2PO4(简称KDP)是一种非线性光学晶体,具有良好的光学性能,在惯性约束核聚变领域具有极为重要的地位。由于KDP晶体质地软,表面易......
文中阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;通过分析离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,讨论了各种工艺......
