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本文介绍了几种大气压等离子源,并从电源类型、有无介质两方面对其进行了分类,并介绍了每一类等离子源的特点,介绍了大气压等离子......
本文对等离子体当作质谱测定法用的大气压等离子源进行了简要的评论,讨论了微波感应等离子体(MIP)的特性和分析能力,给出了近期研......
给出了一种新型大规模三维均匀低温等离子源的工作原理、设计参数和具体实现方案。它使传统感应等离子源由二维均匀转变为三维均匀......
应用材料公司发布了基于Applied Centura Silvia TM刻蚀系统的最新硅通孔刻蚀技术。新的等离子源可将硅刻蚀速率提高40％，快速形成平......
<正> 由美国真空协会组织,在加州大学伯克利分校召开的“集成电路(IC)制造中的高密度等离子技术及其工艺”专题讨论会(AVS/Berkely......
Litmas^TM RPS 1501和3001远程等离子源平台；干法光刻系统；立式炉管；刻蚀系统；离子注入设备......
综合了 Ga As和 In P基 HFET工艺中的选择腐蚀技术的有关报道 ,重点介绍了应用 ICP设备和气体组合 BCl3+ SF6 进行异质结材料组合......
Diodes公司推出专为IP电话（VoIP）通信开发的新型60VN沟道器件，扩展了其MOSFET产品系列。新型DiodesDMN60xx系列专为处理产生正极线和......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
<正>冷大气压等离子可为诸多工业和医疗应用带来决定性的优势。凭借新型爱普科斯（EPCOS）CeraPlasTM产品,TDK提供了一种比传统技术更......
本研究在分析微弧氧化不同火花阶段宏观反应现象和生成膜层特征的基础上,建立白色火花放电和红色火花放电等离子源形成模型。阐明......
