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中心供液小磨头抛光去除函数理论模型和实验研究
传统计算机控制小磨头抛光技术因具有较高的去除效率以及较好的面形控制能力,广泛应用于光学元件加工的抛光阶段,但是抛光垫易磨损和......
学位
小磨头抛光
中心供液
抛光垫
去除函数
行星优化
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