高纯钨相关论文
高纯钨具有高抗电子迁移、高硬度和高熔点等优良性能而被广泛应用于制备溅射靶材、放电灯电极和高温炉构件等.本文综述了高纯钨的......
以高纯钨、钴、碳粉为原料，在真空条件下制备获得物相纯净的Co6W6C化合物，对Co6W6C进行系列实验测定并结合计算得出了其相关的热力学......
高纯钨丝、钨粉、三氧化钨、氯化钨等产品中磷砷含量极微,光谱法及一般的钼蓝法灵敏度不够。本文采用阴离子交换树脂使钨与砷磷分......
高纯钨粉中铅含量可低至0.0000X％,用微分脉冲溶出法测定虽有足够高的灵敏度,但钨干扰严重,必须彻底分离。 Надёжина曾用硫......
本文对发射光谱胡测定纯钨中痕量杂质元素方法中的裁体、缓冲剂组份、电极规格以及激发电源参数进行了研究,拟定了以国产一米光栅......
利用钨及其合金制造结构件和导电元件的主要困难在于它的压力加工性能不好,这是由于钨的冷脆性、高硬度、高强度及在大气条件下加......
关于钨中痕量元素的光谱测定已有很多报道,其中主要采用了载体分馏法。不少工作者还研究了用杂质预富集的光谱法或化学法和其它直......
用美国RO-316型红外定氧仪对高纯钨粉中氧的测定以及氧的存在状态进行了研究。根据加热温度和时间的对应关系可判断金属中氧的存在......
根据生产,科研的要求,高纯钨中要测定铍、镉等21个杂质元素,而原方法不能测定铍,镉。为此,本试验在原法的基础上加入铍、镉两个元......
本工作采用发射光谱测定了纯钨中硅、铝、锰、镁、锑、铅、铁、铬、钴、钛、铋、镍、钒、钼、锡、钙、镉、铜等18个痕量元素,并对......
以高纯钨粉为原料,采用粉末冶金,旋压加工方法,研究了制坯和变形工艺同钨管密度、组织、机械性能、再结晶温度及加工性能的关系,......
文章题目期页1 钨钼、硬质合金及金属陶瓷高压氧分解 -萃取法回收铜钼中矿中的钼 1 1机械球磨法制取超细碳化钨粉的研究 1......
美国的钨市场如同其它金属一样,1981年销售比较兴旺,而1982年则变得异常萧条。
The United States tungsten market, like other......
上海钢铁研究所以高纯钨粉为原料,采用粉末冶金,旋压加工的方法,研究了制坯和变形工艺同钨管密度,组织,机械性能、再结晶温度及加......
用粉末冶金工艺制造钨硅化物溅射靶已为人们所熟知,本文提及的以自传播高温合成技术制取较好的基材—高纯钨硅的包复粉末是值得注......
本文综述了国际上钨和钨合金的新发展情况。全文分二部分,第一部分为钨粉末和掺杂钨丝,第二部分为钨合金和高纯钨。
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本文采用载体分馏法,以直流电弧作激发光源,在中型摄谱仪上,样品可不经分离富集,一次摄谱同时测定高纯钨中十七种杂质元素。测定......
微量硅的测定方法很多,对于钨中微量硅的测定曾用过光谱法、极谱法以及离子交换分离法,本文采用萃取光度法。当有酒石酸钠存在时,......
今天,钨消费的主要领域仍然是:硬质合金(55%)、钢的添加剂(27%),钨及其合金(13%),钨化合物(5%)。此消费现状与50年前相比没有大的......
采用电感耦合等离子体原子发射光谱法（即ＩＣＰＡＥＳ法）测定钨中的１４种杂质元素，并对１９种微量元素的基体效应和光谱干扰进行了研究，建立了ＩＣＰＡＥＳ与基体分......
通过对不同结构的高纯钨进行微米和纳米压痕实验,发现压痕尺寸和晶粒/亚晶粒尺寸对材料的硬度有重要影响。探讨硬度的晶界效应和压......
采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯钨中二十六种痕量杂质元素,研究了质谱干扰和钨基体效应,应用屏蔽炬技术消除56Aro+等......
本文介绍了虹鹭公司开发的高纯钨材料的性能,它的纯度达到5N,同时还原分析了高纯钨的内部组织结构和高纯钨丝的强度和硬度.......
该论文对电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)分析中基体钨21种分析元素的光 谱干扰、基体效应及其校正方法进行了较为系统、深......
合理的金相试样制备方法是获得清晰、高质量显微组织图像的保障,是材料金相研究的基础。对高纯钨、高氮不锈钢、汽车钢板、涂层材......
通过对不同结构的高纯钨进行微米和纳米压痕实验,发现压痕尺寸和晶粒/亚晶粒尺寸对材料的硬度有重要影响。探讨硬度的晶界效应和压......
<正> 本文采用载体分馏法,以直流电弧作激发光源,在中型摄谱仪上,样品可不经分离富集,一次摄谱同时测定高纯钨中十七种杂质元素。......
对高纯钨中痕量钍的分离、富集及催化极谱测定了进行了研究。它是用Ｈ２ＳＯ４（浓）－（ＮＨ４）２ＳＯ４深解高纯钨样品，用镁作载体，氢氧化钠作共沉淀剂在ｐＨ值大于１３时使钍......
采用以一定比例的ＨＮＯ３和ＨＣｌ为介质，使钨沉淀成钨酸与杂质分离，然后用碳粉吸附杂质再进行光谱测定的方法，对高纯钨（包括金属钨、三氧化钨、钨酸......
采用辉光放电质谱法（GD—MS）同时测定了高纯钨锭中66种痕量杂质元素。主要杂质元素（K，Ba等）的测定值与电感耦合等离子体质谱法（ICP—MS）定......
<正>高纯钨分析要求测定的元素多(铁、铝、硅、镁、钙、钠等20种).测定下限低(1～20μg·g~(-3)).国内多采用摄谱法测定,也有采......
现时的材料开发愈来愈多地受到剧烈竞争市场的冲击,长期的基础研究普遍地转向以应用为基础的短浅研究,与此同时,在过去几年里,工业......
钨、钼虽然在计算机外围设备中已有某些应用,例如碳化钨丝用于打印针等,但在超大规模集成电路(VLSI)中直接应用钨、钼或其硅化物,......
近年来,世界上钨钼产品的研究和开发应用进展很快,新材料、新技术、新工艺不断涌现。本文着重介绍国外在钨钼产品的研究和开发应用......
众所周知,钼元素是生产加工高纯钨的有害杂质。如用钨拉制灯丝,对钼的含量极严,通常以 ppm 单位衡量,因为钼的熔点相对而言较低,假......
采用较低温度下的化学气相沉积技术制备了高纯钨，利用分离式HOPKINSON压杆装置对制备的高纯钨和商用粉末烧结纯钨进行应变率为1000／s......
采用电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）法测定高纯钨中杂质元素含量;应用H2反应池技术消除复合离子对K、Ca、Fe和Si等元素的干扰;考察了......
采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯钨中26种痕量杂质元素,讨论了溶样方式,研究了质谱干扰和钨基体效应,应用屏蔽炬技术......
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