论文部分内容阅读
本文分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu/Ni多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(SEM)确定镀层结构.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.
电沉积纳米金属多层膜研究
【摘 要】
：
本文分别采用单槽法和双槽法电沉积制备Cu/Ni多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用俄歇电子能谱和扫描电子显微镜(SEM)确定镀层结构.通过对比分析了单槽
【机 构】
：
天津大学化工学院
【出 处】
：
中国电子学会第六届生产技术学分会学术年会
【发表日期】
：
2000年期
其他文献
本文依据离散仿射小波变换理论,给出了小波神经网络模型的几种典型形式,详细讨论了小波基函数网络(WBFN)的时(空)—频域逼近原理,提出了该网络结构设计的“分解—综合”方法.
利用脉冲电沉积的方法首次制备了氧化钨电致变色薄膜材料。利用后续退火处理使之结晶。测量了样品的反射率。 研究了反射率与样品制备件之间的关系。通过优化制备条件，获得了
金属铝经阳极氧化后可在其表面形成一层AlO膜，使用不同的阳极氧化液，所得到的AlO膜的结构形貌迥异，研究表明，在草酸熔液中进行阳极氧化所形成的AlO膜中，有许多排列有序且垂直于基
利用电沉积方法制备了氧化镍及氧化钴电致变色材料并对它们的结构及电色特性进行了研究。两种材料均在可见光范围内表现出良好的电致变色特性。对两种材料的共沉积物薄膜的电
采用全浸法和电化学综合测试仪测试阳极极化曲线法研究了RE-Ni-W-P-SiC复合镀层在不同浓度的HSO，HCl，HPO，FeCl溶液中的腐蚀速率并与316L不锈钢，复合镀层在HPO中的耐蚀性极好。
电沉积Ni-W-P非晶合金中W含量可高达55.2wt℅，硬度为700～1100Hv，经550℃热处理，可达1300～1400Hv。镀层硬度和耐蚀性优于Ni-P非晶镀层。非晶镀层中的类金属元素P可使腐蚀电位正移；高