【摘 要】
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采用柱状靶直流磁控溅射制备了Al、AlN薄膜和Al/AlN多层膜.Al单组分膜呈现很强的(111)衍射峰,AlN相在单层膜中呈现(100)的择优取向,而在多层膜样品中为(002)的择优取向,同时
【机 构】
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兰州大学等离子体与金属材料研究所,甘肃,兰州,730000
【出 处】
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第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
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采用柱状靶直流磁控溅射制备了Al、AlN薄膜和Al/AlN多层膜.Al单组分膜呈现很强的(111)衍射峰,AlN相在单层膜中呈现(100)的择优取向,而在多层膜样品中为(002)的择优取向,同时出现Al的衍射峰,相应的衍射峰强度很弱.调制周期Λ=2nm的样品没有出现明显的小角衍射峰,说明多层结构消失.XPS结果表明多层膜比单层膜容易获得接近理想化学配比的AlN薄膜,而且抗氧化性能较优.通过增加AlN层的厚度,多层膜硬度没有明显提高;多层膜硬度在调制周期为16nm时达到极大,可达24.5GPa,出现明显的硬度增强,这种增强归因于Al和AlN的弹性模量差异.
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