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光催化氧化去除NOx是一种很有前景的新的NOx去除技术。纳米Ti O2由于其廉价易得、性能稳定、氧化还原能力强等优点,至今仍然是最好的光催化剂之一。诸多理论和实验研究表明,在一般情况下,热力学不稳定的锐钛{001}Ti O2较常规{101}Ti O2光催化活性更高。但是其较窄的光谱响应范围和较高的载流子复合概率大大限制了它的应用。但是因为{001}Ti O2的结晶度高,用常规的后处理方法较难使掺杂原子进入晶格,而若在{001}Ti O2成晶的过程中加入掺杂剂又不可避免的对Ti O2{001}面的生成产生不良影响,甚至导致无法得到{001}Ti O2。相对而言,贵金属表面沉积和半导体复合这两种改性方法更适用于对{001}Ti O2的改性。考虑以上因素,本研究选择g-C3N4与{001}Ti O2复合,以期拓宽{001}Ti O2的光谱响应范围,提高其量子效率,提高其光催化氧化NOx的性能。以制备好的g-C3N4和{001}Ti O2作为起始物质的,采用简单的溶剂蒸发方法,制备得到二者的复合催化剂Evap-x。通过XRD、FT-IR、UV-vis DRS等技术对催化剂进行表征。结果表明,经过高温煅烧去除F-离子后,{001}Ti O2仍然保留了锐钛矿晶型和较高的{001}面百分含量。无论在紫外光还是可见光下,所有Evap-x复合样品都显示了相对于{001}Ti O2(或g-C3N4)更强的光催化氧化NOx效果,且g-C3N4的含量存在一个最佳值,当g-C3N4的含量为10 wt.%时,样品对NOx的去除能力最强。以制备好的F-Ti O2为起始物质,采用一种简单的不需要溶剂的方法,使g-C3N4原位生长在Ti O2上,同时去除Ti O2表面的F-离子,制备得到g-C3N4/{001}Ti O2复合光催化剂CT-x。XRD,FT-IR,XPS,SEM和HRTEM表征的结果证实了CT-x复合光催化剂的成功合成。所有CT-x样品的光谱响应范围均拓展至可见光区域,且这种趋势随着g-C3N4的含量增大而增强。对于NOx的氧化,所有CT-x样品的活性均高于纯的{001}Ti O2或g-C3N4,并且,最优样品(CT-10)的催化活性在紫外光下是纯的{001}Ti O2的2.4倍、g-C3N4的4.1倍,在可见光下是纯的g-C3N4的5.8倍。此外,CT-10的光催化活性和光电流密度明显高于Mech-10和Evap-10,表明两相接触越紧密,越有利于复合光催化剂的光生电子-空穴的分离,获得更高的光催化活性。