激光防护用负滤光片是指在所要求的高透射光谱范围中滤除特定波长的激光,这种滤光片主要用于保护光学系统探测器或人眼不被激光损伤。近年来,随着激光技术的发展,激光武器在军事上的应用越来越广泛,激光防护技术的研究已经成为薄膜技术研究的热点之一。梯度折射率薄膜是渐变折射率薄膜的一种,和传统光学薄膜相比有诸多优点。如何获取特定的中间折射率薄膜,是目前光学薄膜研究领域中的热点和难点。本课题采用Si02和TiO2进行变折射率光学薄膜制备技术研究。采用单源混蒸和双源共蒸两种技术探索变折射率光学薄膜制备的有效途径。实验发现,采用单源混蒸技术蒸发不同比例的Si02和Ti02混合材料时,由于两种材料蒸发特性的差异较大,在现行装置中无法获取预期变折射率的薄膜；采用双源共蒸技术以一定的沉积速率比同时蒸发Si02和Ti02两种薄膜材料时,在严格控制这两种材料的沉积速率,保持两种材料的沉积速率稳定的条件下,可以实现按比例蒸发,获得折射率均匀的变折射率薄膜。当Si02和Ti02以1：2的沉积速率比沉积时,制备的薄膜的折射率值为2.029(λ=550nm),接近于理论计算值2.056。课题探索了多种膜系设计方法,包括两种材料的非规整膜系和三种材料的梯度膜系,采用不同方法设计了三种梯度膜系结构,通过比较和理论误差分析,确定最终膜系结构为S|0.4(LMHML)14|Air.在变折射率膜系制备技术研究方面,采用膜系设计软件模拟仿真测量结果,反复调整薄膜制备工艺参数,最终得到符合技术要求的负滤光片,在1315nm处,其反射率大于99.99%。