RF—MBE生长的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管特性

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lunxyxd
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用射频分子束外延技术研制出了室温迁移率为1035cm^2/(V·s),二维电子气浓度为1.0×10^13cm^-2,77K迁移率为2653cm^2/(V·s),二维电子气浓度为9.6×10^12cm^-2的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管材料,用此材料研制的器件(栅长为1μm,栅宽为80μm,源一漏间距为4μm)的室温非本征跨导为186mS/mm,最大漏极饱和电流密度为925mA/mm,特征频率为18.8GHz。
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