AlN/Si衬底上ZnO薄膜的择优取向生长

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhangyang_8591

【摘要】

：

当ZnO薄膜直接沉积在Si衬底上时,由于ZnO与Si的晶格失配度大,不易于获得高质量的ZnO薄膜.因此,选择合适的衬底材料沉积ZnO薄膜,对提高其质量非常重要.本文采用射频磁控溅射法

【作者】

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王磊冷杉王波黄安平李小换朱满康严辉

【机构】

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北京工业大学

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2004年z1期

【关键词】

：

ZNO薄膜磁控溅射择优取向

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(10104004),北京市科技新星和北京市教委科技发展计划

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当ZnO薄膜直接沉积在Si衬底上时,由于ZnO与Si的晶格失配度大,不易于获得高质量的ZnO薄膜.因此,选择合适的衬底材料沉积ZnO薄膜,对提高其质量非常重要.本文采用射频磁控溅射法,通过在Si(100)衬底上预沉积AlN作为ZnO薄膜生长的缓冲层,获得了择优取向的ZnO薄膜.我们还讨论了ZnO薄膜在AlN/Si衬底上的取向生长机理.

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