关于“制作低温度系数的Cr—SiO薄膜电阻的工艺探讨”一文的讨论

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最近我们收到杭州大学夏银水同志的来稿,对本刊1990年第3期发表的“制作低温度系数的Cr—SiO薄膜电阻的工艺探讨”一文提出了一些不同看法.为贯彻“百花齐放,百家争鸣”的方针,活跃刊物气氛,我们决定将夏银水同志的文章全文发表,以期有兴趣的同志对此展开讨论. Recently, we received contributions from Comrade Xia Yin Shui from Hangzhou University and put forward some different views on the article entitled “Process Technology for Making Cr-SiO Thin Film Resistors with Low Temperature Coefficient” published in the 3rd issue of the journal in 1990. In order to implement the policy of “letting a hundred flowers blossom and a hundred schools of thought contend” The principle of active publication atmosphere, we decided to publish the full article of Comrade Xia Yin Shui, in order to interested comrades to discuss this.
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