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硅基薄膜太阳能电池是光伏电池领域最具有发展前景的组件。采用非平衡磁控溅射技术制备氢化硅薄膜和SiNx／Si纳米多层膜，并对其结构与性能进行了分析。结果表明，Si：H薄膜呈现出非晶硅和硅纳米晶颗粒复合结构；随着溅射混合气中氢气含量的增加，Si：H薄膜的晶化程度增强；Si：H薄膜的光学带隙均高于2．0eV。利用交替磁控溅射方法沉积的SiNx／Si纳米多层膜结构，其呈现出非晶相。