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要用旋转圆盘电极，双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Ｃｕ－Ｃｏ纳米多层膜，并用ＴＥＭ．ＡＥＳ和Ｘ－射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明：多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成。铜在钴层中的含量，随着液中的铜含量的增大和转速的提高而提高。
电化学方法制备铜钴纳米多层膜
【摘 要】
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要用旋转圆盘电极，双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Ｃｕ－Ｃｏ纳米多层膜，并用ＴＥＭ．ＡＥＳ和Ｘ－射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明：多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金
【机 构】
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北京科技大学
【出 处】
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电化学
【发表日期】
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1996年3期
【基金项目】
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冶金部腐蚀与磨损开放实验室资助
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