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本文通过对不同条件下双层金属通孔电阻的测试，验证了反溅射再淀积现象的存在，并通过对比实验，分析了影响再淀积的因素和其对电路可靠性的影响。
反溅射再淀积现象的探讨
【摘 要】
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本文通过对不同条件下双层金属通孔电阻的测试，验证了反溅射再淀积现象的存在，并通过对比实验，分析了影响再淀积的因素和其对电路可靠性的影响。
【机 构】
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中国华晶电子集团公司中央研究所
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1997年5期
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