【摘 要】
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Sigma-C和Mentor Graphics公司共同为IC设计团体带来了曙光。设计者们一直希望他们的设计进入制版工艺前,能在IC布局中发现并修正光刻中的过热点。为此Sigma-C公司已经推出了
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Sigma-C和Mentor Graphics公司共同为IC设计团体带来了曙光。设计者们一直希望他们的设计进入制版工艺前,能在IC布局中发现并修正光刻中的过热点。为此Sigma-C公司已经推出了专为设计和OPC(optical-proximity correction,光学邻近校正)应用的Solid+微光刻模拟器。
Together, Sigma-C and Mentor Graphics bring a ray of hope to the IC design community. Designers have been hoping their designs will find and correct hot spots in photolithography in IC layouts before they enter the platemaking process. To that end, Sigma-C has introduced Solid + microlithography simulators for design and OPC (optical-proximity correction) applications.
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