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曝光强度对卤化银微晶中载流子行为及其陷阱效应的影响
曝光强度对卤化银微晶中载流子行为及其陷阱效应的影响
来源 :感光科学与光化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dgfm1028
【摘 要】
:
针对卤化银感光材料潜影形成过程中光作用动力学问题,分析了曝光强度对光生载流子行为和电子陷阱效应的影响,认为伴随着曝光强度的增加,影响光电子衰减的因素由电子陷阱起主
【作 者】
:
傅广生
刘荣鹃
杨少鹏
江晓利
代秀红
李晓苇
【机 构】
:
河北大学
【出 处】
:
感光科学与光化学
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
电子陷阱
复合中心
曝光强度
光电子
光空穴
卤化银
electron trap recombination center exposure intensity
【基金项目】
:
国家自然科学基金,河北省自然科学基金,教育部科学技术研究项目
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针对卤化银感光材料潜影形成过程中光作用动力学问题,分析了曝光强度对光生载流子行为和电子陷阱效应的影响,认为伴随着曝光强度的增加,影响光电子衰减的因素由电子陷阱起主要作用演化到电子陷阱和复合中心共同起作用进而演化到复合中心起主要作用.
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