【摘 要】
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本文简要介绍了用于超大规模集成电路微细加工的各种曝光技术,包括光学方法,电子束、离子束和X射线技术。比较了它们的优缺点,综述了国际上近年一类这些光刻技术方面的进步以及今
【机 构】
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中科院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
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本文简要介绍了用于超大规模集成电路微细加工的各种曝光技术,包括光学方法,电子束、离子束和X射线技术。比较了它们的优缺点,综述了国际上近年一类这些光刻技术方面的进步以及今后的发展趋势。
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