【摘 要】
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采用JGP-450A2磁控溅射仪制备了一系列不同Si含量（≤20%（原子比））的VSi N涂层。利用结构和性能测试仪器对VSi N涂层的微结构、力学性能和摩擦磨损性能进行了表征。结果表明:VSi N
【机 构】
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天津大学材料科学与工程学院,天津市先进连接技术重点实验室,
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采用JGP-450A2磁控溅射仪制备了一系列不同Si含量（≤20%（原子比））的VSi N涂层。利用结构和性能测试仪器对VSi N涂层的微结构、力学性能和摩擦磨损性能进行了表征。结果表明:VSi N涂层的相组成为面心立方的VN相、V2N相和非晶氮化硅相,呈（111）择优生长。随着溅射后Si含量增加,VSi N涂层的硬度先升高后降低,含有10.2%Si含量的涂层硬度最大,约为27 GPa。室温环境摩擦时,随着溅射后Si含量增加,摩擦系数和磨损率均呈现先减小后增大趋势。摩擦系数和磨损率最小值均在硬度最大处获得,分别为0.35和5.2×10-6mm3/N·mm。
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