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介绍了用Leica VB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4英寸铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术.
亚半微米铬掩模版制作技术研究
【摘 要】
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介绍了用Leica VB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4英寸铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术.
【机 构】
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河北半导体研究所
【出 处】
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微纳电子技术
【发表日期】
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2002年2期
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