Co-酞菁和Cu-酞菁在Au(111)表面吸附行为的比较

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【摘要】

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利用扫描隧道显微术并结合理论计算研究了金属 Co-酞菁和Cu-酞菁分子在Au(111)表面上的吸附行为的差异.结果显示,由于这两种分子与衬底电荷转移的差异,引起了分子阎相互作用

【作者】

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胡晓李竞成胡振芃赵爱迪王兵

【机构】

：

中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室

【出处】

：

电子显微学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

分子自组装电荷转移分子吸附

【基金项目】

：

国家自然科学基金;

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利用扫描隧道显微术并结合理论计算研究了金属 Co-酞菁和Cu-酞菁分子在Au(111)表面上的吸附行为的差异.结果显示,由于这两种分子与衬底电荷转移的差异,引起了分子阎相互作用不同.使得两种分子在Au(111)表面表现出不同的吸附组装结构.分子-村底相互作用与分子间库仑排斥作用两种机制的竞争是造成其组装结构差异的原因.

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