【摘 要】
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利用DAC原位测量技术,研究了Mo O3电阻率和高压阻抗随压力的变化规律.电阻率在10.6 GPa和20.8 GPa时出现不连续变化,对应着Mo O3由正交相到单斜相（P21/m）再到单斜相（P21/c）的结构
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划（973计划）（2011CB808204）, 国家自然科学基金项目（11374121）
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利用DAC原位测量技术,研究了Mo O3电阻率和高压阻抗随压力的变化规律.电阻率在10.6 GPa和20.8 GPa时出现不连续变化,对应着Mo O3由正交相到单斜相（P21/m）再到单斜相（P21/c）的结构相变.压力低于10.6 GPa时,电阻率随着压力的增大而减少;单斜相（P21/m）的电阻率随压力增加而增加;压力高于20.8GPa时,电阻率随压力增加而减小.通过拟合复阻抗谱,得到了晶粒电阻随压力的变化规律.晶粒电阻在10.6GPa出现不连续变化,对应着Mo O3由正交相到单斜相（P21/m）的结构
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