华虹半导体推出0.2μm射频S0I工艺设计工具包

来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户:HBFQYD2009
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华虹半导体日前宣布推出全新的0.2μm射频SOI(绝缘体上硅)工艺设计工具包(ProcessDesignKit,PDK)。这标志着新的0.2μm射频SOI工艺平台已成功通过验证,并正式投入供客户设计开发使用。工艺设计工具包(PDK)的推出可协助客户快速完成高质量射频器件的设计与流片。
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