【摘 要】
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针对BCD工艺中出现的NMOS管结漏电问题进行研究，通过失效分析的方法发现有结穿刺现象，怀疑为金属阻挡层工艺窗口较小。为进一步调查金属阻挡层的工艺容宽，尝试采用了苛刻的多次
【机 构】
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上海交通大学微电子学院,上海先进半导体制造股份有限公司
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针对BCD工艺中出现的NMOS管结漏电问题进行研究，通过失效分析的方法发现有结穿刺现象，怀疑为金属阻挡层工艺窗口较小。为进一步调查金属阻挡层的工艺容宽，尝试采用了苛刻的多次合金的方法对当前使用的阻挡层进行考察，发现经过多次合金处理的产品成品率大幅下降，从而确认金属阻挡层的工艺容宽较小。为了改进工艺进行准直溅射阻挡层、不同的金属阻挡层厚度、RTP、小应力阻挡层等试验，并结合多次合金的方法对阻挡层进行了考核。实验结果表明，应力过大是NMOS管漏电的根本原因。最后研发出一种优化的小应力阻挡层菜单，并成功应用于B
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