【摘 要】
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通过多靶磁控反应溅射方法沉积了Ti-Si-N系纳米复合薄膜.采用电子能谱仪(EDS)、X-射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、X-射线光电子能谱(XPS)和显微硬度仪分析Ti-Si-N系薄
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通过多靶磁控反应溅射方法沉积了Ti-Si-N系纳米复合薄膜.采用电子能谱仪(EDS)、X-射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、X-射线光电子能谱(XPS)和显微硬度仪分析Ti-Si-N系薄膜的微观结构和力学性能,以及基片温度对薄膜微结构和硬度的影响.结果表明,薄膜中的Si以非晶Si3N4形式抑制TiN晶粒的生长,使之形成纳米晶甚至非晶;薄膜硬度在a(Si)=4.14%时达到最大值(36 GPa),继续增加Si的含量,薄膜硬度逐渐降低.基片温度的提高减弱了Si3N4对TiN晶粒长大的抑制作用,因而
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