光谱椭偏相关论文
阐述光谱椭偏测量技术基本原理和椭偏测量数据分析方法 ,发展宽光谱穆勒矩阵椭偏仪等先进光谱椭偏测量技术和仪器。利用光谱椭偏测......
随着有机发光二极管（OLED）应用的普及,发展高性能OLED器件成为这一领域具有重要意义的议题。有机膜层中材料分子往往呈取向排列,这会......
为改善X射线晶体密度法测得的阿伏伽德罗常数的标准不确定度,研制了一种基于光谱椭偏术和二维Si球扫描机构的Si球表面氧化层厚度自......
随着科学的发展与制备工艺的进步,研究人员们根据光学原理设计出了各式各样的传感设备与检测仪器,例如光学计量仪器、激光干涉式、......
为了监控3维玻璃上聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)复合衬底介质膜膜厚,采用将PET复合衬底等效为单层基底材料的建模分析方法,通过椭偏......
HfO2薄膜厚度达到纳米级别时，其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数，但是由于测量参数的关联......
采用射频磁控溅射方法制备掺铝氧化锌（AZO）薄膜,研究了气体流量对薄膜晶体质量及光电性能的影响。测试结果表明,当氩气流量为70 m L/......
为了深入理解过滤阴极电弧沉积非晶金刚石薄膜的光学性质，利用光谱椭偏仪研究了薄膜光学常数随测试偏振光波长变化的谱学关系，进而分......
采用从近红外到深紫外能谱范围的扫描光谱椭偏方法,对AlN单晶薄膜结构和光学特性进行了研究.结果显示：近红外到近紫外能谱（1.5-3.875......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
随着集成电路集成度增加,材料制备工艺的发展以及工业的需要,半导体薄膜栅介电层的厚度逐渐发展到了纳米级别。传统SiO2半导体材料......
