双离子束溅射相关论文
为了研究ITO薄膜在宽角度电磁屏蔽激光窗口中的应用效果，采用双离子束溅射镀膜技术在不同工艺条件下制备了ITO薄膜，根据薄膜的光电性......
采用双离子束溅射(DIBS)工艺制备了Ta2O5/SiO2和Nb2O5/SiO2两种800 nm45°宽带p光高反镜。利用中心波长800 nmCPA系统分别输出40 f......
本论文采用双离子束溅射沉积方法制备了Si-SiOx、SiOx：C、SiOxNy复合薄膜，TEM及XRD的测试表明三种薄膜均为非晶结构，通过FTIR和XPS进......
色散镜具有反射率高、色散补偿可精确控制等优点，是超短脉冲系统中必不可少的色散补偿元件。超短脉冲技术的不断发展使得脉宽不断变......
用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜,研究了Ni含量、主源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构、磁性及热稳定性的影响,......
采用双离子束溅射技术、时间控厚方式制备波长532nm绿光激光器用倍频波长分离膜。针对制备过程中产生的半波孔现象，在简单分析形成......
采用双离子束溅射法制备了SiNx薄膜,用XRD、XPS、FTIR等对薄膜的结构进行了表征,并且分析了样品的光致发光(PL)特性.发现在225 nm......
采用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜，用X射线衍射分析（XRD），透射电子显微镜（TEM），X射线光电子能谱（XPS），傅立叶变换红外（FTIR）等对薄膜的结构......
文章对中心波长为488nm、520nm、560nm和600nm的专用滤光片进行了研制,为保证通带高透过率的要求和对背景光的高效抑制,采用单基片......
用双离子束溅射法,在单晶硅、玻璃、Mo 及不锈钢表面淀积了类金刚石碳膜.研究了轰击离子源能量、束流及其氢/氩气流量比对薄膜性能......
以Ge-SiO2和Si-SiO2复合靶作为溅射靶,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge-SiO2和Si-SiO2薄膜.然后分别在N2气氛......
采用双离子束溅射方法在Si3N4/SiO2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜,在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜.利用X射线衍射（XRD）、扫描电子......
以双离子束溅射法在(111)硅片和玻璃上分别制得了单一γ1-Fe4N薄膜,研究了基片及基片温度对薄膜的结构和磁性能的影响.结果表明,以......
采用双离子束溅射技术制备了Si和C共掺杂的SiO2薄膜,在N2气氛下进行了不同温度的退火处理.分析了样品在室温下的光致发光(PL)特性,......
利用石英晶体的双折射效应和特殊红外截止滤光片设计并实现了一种日夜两用光学低通滤波器。该滤波器置于CCD摄像机传感器前可以有......
采用双离子束溅射物理沉积方法,通过修正线性渐变沉积速率制备了高透过率、高色散系数的线性渐变滤光片。在不同材料的膜厚修正过......
硅氧氮薄膜（SiOxNy）是硅集成电路中重要的钝化膜和介质膜，并在超大规模集成电路中得到了越来越多的应用。而氮化硅薄膜（SiNx）作为一种表......
精密片式薄膜固定电阻器是一种应用广泛的通用电子元件,尤其在需要高稳定性、高可靠性的航天、航空、国防以及在电子计算机、通讯......
采用双离子束溅射方法在Si3N4/SiO2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜,在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电......
研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺.简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和......
为了实现对基于BaTiO3薄膜的高速电光调制器波导精确测试,研制出了一种深背景、高截止度的滤光片,用于提高测试系统信噪比,排除杂......
