射频磁控溅射技术相关论文
人类在发展的过程中总是不断的在向大自然学习，而人类对于超疏水现象的研究则源自于植物表面的自清洁性能。受到自然的启发，例如荷叶......
文章以CrSi合金为靶材，通过射频磁控溅射制备高功率密度薄膜功率电阻。从溅射参数、热处理参数和电路图形的改善两方面来提高Cr......
2维（2D）SnO半导体薄膜材料及在微纳电子器件中的应用问题受到了人们的广泛重视。近年来,各国科学家们已从SnO材料及器件的制备研究中......
采用射频磁控溅射技术,利用Zn靶,在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)仪、傅立叶红外光谱仪、紫外-可见光分光光度计UV-36......
本文采用电感耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在M2钢表面制备了ZrN薄膜，研究N2流量对ZrN薄膜的结构和性能影响。将M2钢和ZrN......
利用射频磁控溅射技术在石英衬底上制备了MgZnO合金薄膜,并采用传统湿法刻蚀的方法在薄膜上制备了梳妆叉指Au电极,构成金属-半导体......
利用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上成功地制备了透明的TiO薄膜.在保持Ar气和O气流量比固定的前提下,研究了溅射总压强对薄膜结构与......
Si/SiO薄膜采用射频磁控溅射技术制备，当正向偏压大于5V时即可观测到来自不同Si层厚度的Au/(Si/SiO)/p-Si结构在室温下的可见电致发......
ZnO是一种直接带隙宽禁带II-VI族化合物半导体材料，特别是掺杂的ZnO薄膜不仅具有类金属的导电性，而且对可见光表现出高透过率。由于Z......
本文采用射频磁控溅射技术在316L不锈钢表面制备了 ZrC涂层。采用X射线衍射分析、透射电子显微观察、扫描电子显微镜观察、原子力......
金属纳米颗粒由于具有独特的局域表面等离子体共振(LSPR)性质，广泛地应用于提高紫外光电探测器器件性能领域。利用射频磁控溅射......
硫化锌薄膜以其直接带隙材料、禁带宽度较大和无色透明等特点被广泛用于在气敏传感、湿敏传感、透明导电薄膜、太阳能电池等领域。......
2维(2D)SnO半导体薄膜材料及在微纳电子器件中的应用问题受到了人们的广泛重视。近年来，各国科学家们已从 SnO材料及器件的制备研究......
本文采用射频磁控溅射技术，以SiO和单晶Si为靶材，在P型Si和不锈钢基底上制备出一系列的SiO薄膜样品。基于金相显微照片、原子力显微......
二氧化钒(V02)是一种固态热致相变材料,在温度升至68℃时会发生非金属-金属的可逆转变。由于在V02相变过程中会伴随有材料的电阻、......
硅碳氧(SiCO)薄膜是一种三元玻璃状化合物材料,具有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高等特性,是一种具有潜在应用价值的新......
利用射频磁控溅射方法,使用Mg0.04Zn0.96O陶瓷靶材,选用不同流量比的氮气和氩气混和气体作为溅射气体,在石英基片上生长N掺杂MgxZn......
西安交通大学研究人员利用射频磁控溅射技术，制备出高质量的多层复合薄膜，并研究了其储能性能。......
以便在玻璃底层上制作 titania nanotubes， Ti 薄电影(700900 nm ) 被无线电频率(RF ) 首先扔磁控管劈啪作响然后在房间温度在一个......
单元素半导体量子点的制备成功使光电集成成为可能。介绍了单元素半导体量子点的制备方法，包括射频磁控溅射技术、硅离子注入技术、......
摘 要：采用射频磁控溅射技术，以氧化锌（ZnO）为靶材，在PET塑料表面沉积制备了氧化锌薄膜包装材料，研究了氩气（Ar）流量对所制备的ZnO薄膜结构......
用射频共溅射技术和后退火的方法,制备出埋入SiO2基质中的Ge纳米晶复合膜(nc-Ge/SiO2).用XRD对薄膜的晶体结构进行了测试,未经退火......
目的：应用羟基磷灰石（HA）涂覆医用金属材料（基体）表面获得有良好机械性能与生物相容性的人工骨植体。方法：采用射频磁控溅射技术，以Ti-6AL......
采用射频磁控溅射技术,以氧化锌(ZnO)为靶材,在PET塑料表面沉积制备了氧化锌薄膜包装材料,研究了氩气(Ar)流量对所制备的ZnO薄膜结......
利用射频磁控溅射技术,在室温下用TiO2陶瓷靶在玻璃基底上制备N掺杂TiO2薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪......
采用射频磁控溅射和组合靶在260℃的(111)Si上制备了不同Ni、La含量比的La-Ni-O薄膜.通过拟合2～12.5μm波长范围的反射和透射光谱,......
采用射频磁控溅射技术首次在有机薄膜衬底上低温制备出具有低电阻率和良好附着性的Zn-Sn-O透明导电膜.研究了有机衬底和玻璃衬底Zn......
