激光诱导化学气相沉积法相关论文
介绍了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工艺原理.通过增加正交紫外光束激励NH3分解,提高气相中n(N)/n(Si)比,从而减少产物......
总结了激光技术制备纳米粉末的特点，介绍了激光诱导化学气相沉积法、激光烧蚀法、激光诱导液-固界面反应法以及激光-感应复合加热法......
氮化硅是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.本文论述了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施;采用......
利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒.研究了不同反应气体流量条件下,纳米硅微结构的转变规律,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响......
自行设计制备了激光诱导化学气相沉积法(LICVD)纳米制粉装置，利用该装置制备的纳米硅粉其粒度波动在30～60nm之间。通过对不同反应气......
纳米材料科学是近年来兴起的新的科学领域，纳米粉体的制备则是纳米材料研究的主要方面。本文比较详细地介绍了制备碳化物、氮化物纳......
研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备得到了超微的、非晶纳米氮化......
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