调制周期相关论文
通过超高真空磁控溅射系统制备出一系列相同调制比的VN/TiB2纳米多层膜,研究了调制周期对薄膜界面作用及机械性能的影响.利用X射线......
会议
采用射频磁控溅射技术,在Si(100)基底上制备相同厚度不同调制周期的HfN/HfB2纳米多层膜来获得不同的调制周期对其结构和机械性能的......
采用超高真空射频磁控溅射技术，在Si(100)基底上制备了相同厚度不同调制周期的HfN/HfB2 多层膜，利用X 射线衍射、扫描电子显微镜、xp......
会议
本文利用复合磁控阴极弧技术在轴承钢基底上制备了不同周期的Cr/CrN多层和梯度结构的Cr/CrN多层,通过扫描电子显微镜观察了薄膜的......
单层TaN薄膜及由柔性Ta及硬TaN层组成的多层Ta/TaN薄膜通过ECR增强直流磁控溅射在不锈钢基体上制备,所有的TaN及Ta/TaN薄膜均制备2......
纳米多层膜具有单层薄膜难以达到的各种特殊性能，如高的硬度、结合强度，高的韧性及热稳定性，低的摩擦系数等；同时，非晶碳(a-C)薄膜由于......
金属铀具有独特的核性能,在核工业领域得到广泛应用,但其化学性质十分活泼,在高湿和盐雾环境中极易遭受腐蚀,因而解决铀的易腐......
利用射频磁控溅射技术,在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜。分别采用表面轮廓仪、纳米力学测试系统、多功能材料......
采用射频磁控溅射方法制备了单层TiAlN、CrAlN复合薄膜以及不同调制周期和不同层厚比(lTiAlN/lCrAlN)的TiAlN/CrAlN纳米结构多层膜......
在室温下利用直流磁控溅射法制备出了具有不同Co层厚度的 [Co(dConm) /Ti(dTinm) ]n 金属磁性多层膜 (其中dCoanddTi是Co和Ti的厚......
采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观......
在高阻硅基片上,我们制备了末端串联了dc-SQUID的λ/4谐振器,实现了可调超导共面波导谐振器.通过与谐振器耦合的传输线,我们测量了......
为改善TiN硬质薄膜的硬度和耐摩擦磨损性能,采用多弧离子镀技术,在硬质合金基底上制备了单层TiN-Cu薄膜和调制周期Λ=5.9~62.1 nm......
TiN薄膜是一种性能优良的硬质薄膜,在切削刀具、模具、地质钻探、纺织工业、医疗器械、汽车制造等领域均有广泛的应用。但是随着工......
本文采用Ta层作为过渡层,通过磁控溅射（MS）技术在单晶Si（100）与硬质合金（YG8）基体表面沉积了TiAlN/Ta复合涂层与具有不同调制周期的TiAlN......
磁控溅射镀膜技术是实验室中最常用的镀膜技术。WS2作为固体润滑剂因摩擦系数低、工作温度高以及耐磨性能好等优点,被广泛应用于真......
本论文采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同Mo靶电流下制备了 NbN薄膜和NbN/MoN纳米多层膜,Nb靶电流恒定为4A,Mo靶电流1～4A,并且制......
学位
用磁控溅射法在Si基底上制备了不同调制波长的SiC／W纳米多层膜。利用小角度X射线衍射技术（LXD），详细研究了其中典型的多层膜的调制周期......
简要综述表征薄膜成分、微结构及力学性能的常用方法.
A brief review of common methods for characterizing thin film composi......
采用反应磁控溅射制备了具有不同调制周期的AIN/(Ti,Al)N纳米多层膜,研究了亚稳相立方氮化铝(c-AIN)在纳米多层膜中的生长条件及其......
利用纳米压痕实验以及四探针法,系统研究了相同层厚Cu/X(X=Cr,Nb)纳米金属多层膜的力学性能(强/硬度)和电学性能(电阻率)的尺度依......
单层TaN薄膜及由柔性Ta及硬TaN层组成的多层Ta/TaN薄膜通过ECR增强直流磁控溅射在不锈钢基体上制备,所有的TaN及Ta/TaN薄膜均制备2......
采用射频磁控溅射方法,在混合气氛下制备了ZrN/TaN多层膜.利用X射线衍射、慢正电子束分析、增强质子背散射、扫描电子显微镜,分别......
以单晶硅和聚酰亚胺为衬底,用磁控溅射沉积调制周期λ=25~150 nm、调制比η=0.5~2的Cu/W纳米多层膜,用XRD、SEM、EDS、AFM、微力测......
通过磁控溅射法并借助有机高分子牺牲层,制备了具有不同调制结构的自支撑Ti/Al(调制比为1)纳米多层膜.采用脉冲激光诱发了纳米多层......
为研究调制周期和界面结构对纳米多层膜应变率敏感性的影响,采用电子束蒸发镀膜技术在Si基片上制备了不同周期(Λ=4 nm,12 nm,20 n......
文中介绍了弹上主动式雷达导引头发射机特点、技术要求以及发展状况。它是当今世界各国研制主动式雷达导引头的关键技术之一,文中......
利用原位Ｘ射线衍射技术得到非晶调制多层膜Ｎｂ／Ｓｉ中的互扩散系数与退火温度的关系，调制周期Ｌ＝３２ｎｍ的非晶调制多层膜是用粒子溅射方法制备的．温度......
本文采用双靶交替磁控溅射方法制备了Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜，并用高分辨电镜对多层膜截面形貌及界面微结构进行了分析。结果表明：Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜具有......
通过磁控反应溅射仪制备了ＴａＮ／ＴｉＮ和ＴａＷＮ／ＴｉＮ多晶超晶格薄膜，采用Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）、透射电子显微镜和显微硬度仪对超晶格薄膜的微结构和硬度进行了分析结......
采用反应溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ 纳米多层膜， 并通过ＸＲＤ， ＨＲＥＭ 和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明： ＴｉＮ／ＡｌＮ 纳米多层膜有较好的......
采用射频磁控溅射方法制备单层AlN,Si3N4薄膜和不同调制周期的AlN/Si3N4纳米多层膜.采用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和纳米......
采用射频磁控溅射方法制备单层TaN,NbN和TiN薄膜和不同调制周期的TaN/TiN和NbN/TiN纳米多层膜.薄膜采用X射线衍射仪、高分辨率透射......
用透射电子显微分析及高分辨技术.研究了(Fe·Cr)_7C_3型碳化物所属的晶系,层错的堆垛类型及孪生轴的方向。研究结果表明:高铬铸铁......
本文提出了高频感应焊机的一种新颖的控制方式──栅极调制方式，介绍了基本控制的原理。通过对栅极电路的静态和动态分析，提出了参数......
采用脉冲激光沉积(PLA)法,在单晶Si试样表面沉积制备了一系列TiN/AlN硬质多层膜,并采用基于免疫算法的免疫径向基函数(IRBF)神经网......
采用射频磁控溅射法制备了NbN,AlN单层膜及不同调制周期的AlN/NbN纳米结构多层膜,采用X射线衍射仪、小角度X射线反射仪和高分辨透......
用选区电子衍射研究了新合成的铋系铜氧化物Ｂｉ２ＢＳ２Ｎｄ１．６Ｃｅ０．４Ｃｕ２Ｏ１０＋δ观察到了不寻常的调制结构：ｑ＝０．１１４ａ＋０．１１４ｂ．用键长失配和氧插层讨论了调制结构的起因．指出键长失配的加......
采用射频磁控溅射方法,分别在纯Ar和Ar,He混合气氛下制备了多个不同调制周期的Cu/W纳米多层膜.利用增强质子背散射(EPBS)、扫描电......
采用电子回旋共振-化学气相沉积结合中频磁控溅射的真空镀膜技术,以99.99%Ti为靶材,乙炔为碳源制备了Ti/Ti-类金刚石(DLC)多层膜.......
综述了金属多层膜固相反应研究现状。着重阐述了组元结构差异以及不对称扩散偶中快扩散组元对固相反应的影响。另外，也介绍了非晶膜......
