铟锡氧化物薄膜相关论文
本研究采用具有较高相对密度(97％以上)的ITO靶材作样品,进行磁控溅射毒化实验;利用X-射线衍射(XRD)、X-射线光电子能谱(XPS)、扫描......
文章提出了一种小型化的宽带光透明微带天线。选用单极子天线实现宽带性能,辐射贴片上蚀刻的一个倒T形开路缝隙和两个勺形开路缝隙......
利用射频磁控溅射法低温制备铟锡氧化物薄膜,主要研究了氧氩流量比、溅射功率、溅射压强、沉积温度和靶基距等工艺参数对ITO薄膜结......
随着光电产业的蓬勃发展和光电产品的广泛应用，透明导电薄膜的研究受到学术界和业界越来越多的重视，透明导电薄膜的透光性能和导电性......
透明导电铟锡氧化物(ITO)薄膜以其优越的光电性能而广泛应用于液晶显示器、太阳能电池、加热窗等设备当中。 本文使用金属铟和......
背景：在电化学基因芯片中,对载体材料铟锡氧化物薄膜的化学修饰、DNA杂交反应等需要在不同的介质溶液中进行,而各种介质溶液腐蚀会......
Indium tin oxide ( ITO ) thin films ( 100 ± 10 nm) were deposited on PC ( polycarbonate ) and glass substrates by r......
基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜。重点研......
<正>Introduction Indium tin oxide (ITO) film has been widely used as a transparent conductor due to its high transparenc......
在不同温度基片上采用阴极磁控溅射法在玻璃上镀ITO透明导电膜,采用X射线衍射技术分析样品的结构随温度的变化情况,测量了样品的方......
本文报导了ITO靶材溅射时，靶材表面的时效变化和靶材表面结瘤物的组成及其微结构；探讨了结瘤物生成的原因和减缓瘤子生成的方法，对改......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
全面介绍和回顾了当前紫外光电二极管和液晶光阀器件的研究与发展情况，对它们的工作原理，材料特性、制备工艺和应用背景作了详细的分......
综述了铟锡氧化物（ITO）薄膜的生产技术概况及其发展趋势。介绍了ITO薄膜的主要制备技术的制备原理，包括磁控溅射法、溶胶一凝胶法、化......
