双路输出LDO的抗总剂量加固技术研究

来源 :第八届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:R_Edge
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本文介绍了一种星用CMOS双路输出LDO的研制.在电路设计上,采用PMOS管作为调整管、E/DNMOS基准,在工艺上,采用开发的1.5μm硅栅自对准CMOS加固工艺.该低压差电源具有:输出电流1A、压差为0.5V的3.3V固定输出;输出电流1A、输出电压为1.5V~6V的可调输出;静态电源电流小于200μA,其总剂量水平可达3×105rad(Si)以上.
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