0.18μm锗硅HBT BiCMOS工艺中的pin开关二极管设计

来源 :2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:batjbf
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  本文成功地实现了pin开关二极管在0.18μm HBT BiCMOS工艺中的集成。通过不同版图设计对性能影响的对比,结果显示八角形的版图设计性能最优;同时在pin管的总面积不变时,pin二极管单管面积越小,插入损耗越小;而隔离度则与pin的总面积相关,面积越小,隔离度越小。在版图最优的基础上,目前采用优化的i区杂质注入条件,得到了插入损耗<1 dB.隔离度<-20 dB,满足客户产品对pin性能的要求。目前器件性能仍在进一步提高。
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