【摘 要】
：
对三种碳纤维复合材料先进行MEVVA源铜离子注入,注入剂量为1×1016离子/cm2,然后用离子束辅助沉积技术沉积铜膜.对沉积了铜膜的三种样品的表面形貌用扫描电镜进行观察,用四探
【机 构】
：
教育部先进材料重点实验室,100084清华大学材料科学与工程系,100084
【出 处】
：
2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议
论文部分内容阅读
对三种碳纤维复合材料先进行MEVVA源铜离子注入,注入剂量为1×1016离子/cm2,然后用离子束辅助沉积技术沉积铜膜.对沉积了铜膜的三种样品的表面形貌用扫描电镜进行观察,用四探针仪测量表面的方块电阻,用纳米划痕仪测试了铜膜与基体的结合力.结果表明,铜膜比较平整,并且显示了编织的碳纤维的纹路,三种样品表面的方块电阻显示了各向异性,与碳纤维的编织结构相对应.铜膜与基体之间的结合力在28.9mN和34.4 mN之间,与基体有相当的关系.
其他文献
为提高TiO2薄膜的光催化效率,并将TiO2薄膜的响应波段拓展到可见光区域,分别用电子束辐照技术在TiO2薄膜表面沉积了贵重金属纳米颗粒(Ag、Pt)和离子注入技术对TiO2薄膜注入了
本文主要讨论了Paxscan 4030数字影像系统对同步时序的要求,设计出了脉冲式X-射线源的同步触发接口电路,实现了帧周期的大范围变化.
中性束注入器(NBI)是一套用来产生高能带电粒子并进行中性化的设备.NBI真空系统的性能对束传输效率以及整个束线内部各部件的使用寿命与安全都有着非常重要的影响.通过比较、
强流脉冲电子束辐照处理在靶材表层产生剧烈的热-应力耦合作用,可使材料表面组织和性能发生显著变化.本文分别以T8碳钢、D2模具钢和AZ91HP镁合金为实验材料,利用强流脉冲电子
简要回顾和介绍了北京大学EN串列静电加速器运行十几年来所做的改进.着重介绍了两次较大改进,包括注入系统的改进和电子剥离系统的改进.
具有使常规体材既纳米化又同时渗He的特色的离子束辅助磁控He、Ar共溅射沉积方法,已经用于沉积纳米晶LaNiAl含氦膜和含氦粉.XRD、PBS,充放H2实验表明:决定纳米结晶LaNiAl膜的
在感应耦合等离子体增强化学气相沉积(ICPECVD)制备硬质类金刚石膜过程中采取CH4-O2和CH4-Ar两种不同的沉积气体体系,研究其对类金刚石膜沉积过程和薄膜性质的影响.分别对沉
针对磁控溅射、真空阴极电弧沉积技术、全方位离子注入等现有表面改性技术的适用范围和优缺点,本文介绍了一种新型的复合型全方位注入+沉积表面改性方法以及根据该方法研制的
本实验利用电子束及离子注入两种方法对具有生物活性的二氧化钛-羟基磷灰石复合涂层进行改性,在涂层上沉积银或注入银离子,并利用SEM分析测试手段对试验结果进行了分析.最后
利用离子束背散射沟道技术分析测量了室温条件下轻元素杂质掺入Si:Er系统后,对铒在硅中微观结构的影响.初步结果显示,轻元素氧的掺入可以抑制铒在高温退火时向硅表面的扩散,