α-C:F薄膜的沉积、结构与介电性质研究

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【摘要】

：

用微波电子回旋共振（ECR）等离子体化学气相沉积（CVD）技术和CHF_3、C_6H_6源气体的新组合沉积了F/C比在0.11-0.62之间的氟化非晶碳（α-C:F）薄膜材料。重点研究了微波功率的变化对薄膜沉积、气体放电和薄膜结构的影响，初步分析了薄膜的介电色散性质和极化机理。由于微波功率的改变会导致等离子体中电子温度和等离子体密度发生变化，从而造成不同的源气体分解过程，结果微波功率的升高导...

【作者】

：

叶超

【机构】

：

苏州大学

【发表日期】

：

2001年05期

【关键词】

：

α-C:F薄膜 ECR等离子体发射光谱键结构介电性能

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