【摘 要】
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采用中芯国际（SMIC）0．18μm互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺实现了功耗为160mW、速率为10Gb／s的16：1复接器。该复接器采用可以分级优化的树型结构。低速（622Mb／s→5Gb／s）复接和低速（2．5GHz
【基金项目】
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863计划（2006AA01Z284）资助项目.
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采用中芯国际（SMIC）0．18μm互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺实现了功耗为160mW、速率为10Gb／s的16：1复接器。该复接器采用可以分级优化的树型结构。低速（622Mb／s→5Gb／s）复接和低速（2．5GHz→622MHz）分频单元采用CMOS逻辑电路实现，高速（5Gb／s→10Gb／s）复接和高速（5GHz→2．5GHz）分频单元采用源极耦合场效应管逻辑（SCFL）电路实现。测试结果表明，在1．8V的工作电压下，芯片可以稳定工作在lOGb／s的速率上，输出信号逻辑正确，眼图良好，单端峰
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