化学气相反应法制备Zr-Si-C涂层

来源 :硅酸盐学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：q815034246

【摘要】

：

为了提高Zr-Si-C涂层与基体的结合强度,基于粉末埋入反应辅助涂覆工艺,采用新型化学气相反应法在SiC陶瓷表面制备Zr-Si-C涂层。SiC陶瓷基片被包埋于Zr-1%（质量分数）I2混合粉体

【作者】

：

殷小玮 GUTMANAS Elazar 成来飞张立同

【机构】

：

西北工业大学,以色列理工学院材料系

【出处】

：

硅酸盐学报

【发表日期】

：

2007年11期

【关键词】

：

化学气相反应碳化硅碳化钴涂层碘粉末埋入反应 chemical vapor reaction silicon carbide zirconium car

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为了提高Zr-Si-C涂层与基体的结合强度,基于粉末埋入反应辅助涂覆工艺,采用新型化学气相反应法在SiC陶瓷表面制备Zr-Si-C涂层。SiC陶瓷基片被包埋于Zr-1%（质量分数）I2混合粉体中,在850～1100℃进行化学气相反应。碘促进Zr原子向SiC陶瓷表面的传输,Zr与SiC之间的扩散反应导致在SiC表面生成连续的Zr-Si-C复合涂层。采用X射线衍射、扫描电镜结合X射线能谱分析以及相图分析确定了涂层微结构及相组成。结果表明：复合涂层内层为ZrC、中间层为Zr2Si-ZrC1-x复相区、外层为Zr

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