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单面研磨抛光晶片研磨一致性研究
单面研磨抛光晶片研磨一致性研究
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:namezhu
【摘 要】
:
针对LED衬底材料蓝宝石在单面研磨抛过程存在的研磨一致性问题。从运动学理论出发,计算陶瓷盘上任意点的绝对运动方程;通过计算公式来判断任意点的研磨速度;揭示了研磨(抛光)盘
【作 者】
:
裴忠
张峰
【机 构】
:
天通吉成机器技术有限公司
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2017年5期
【关键词】
:
蓝宝石
研磨抛
一致性
运动方程
单面
Sapphire~ Polishing~ Consistency
Equation of motion
Single
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针对LED衬底材料蓝宝石在单面研磨抛过程存在的研磨一致性问题。从运动学理论出发,计算陶瓷盘上任意点的绝对运动方程;通过计算公式来判断任意点的研磨速度;揭示了研磨(抛光)盘和研磨(抛光)头角速度的变化对蓝宝石晶片研磨一致性的影响。
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