ECR等离子体相关论文
利用电子回旋共振等离子体辅助反应脉冲激光沉积的方法制备了氮化碳薄膜.成分分析显示,制备的薄膜主要由C和N两种元素组成,其中N的......
电子回旋共振等离子体因具有低气压、高密度、均匀等优点而被广泛地应用于航天领域，等离子体建模仿真需要考虑磁场、电场、流体力学......
研制了一种高速率溅射的ECR等离子体装置。微波经过一段真空波导管，以反常波模式耦合输入共振腔，腔内溅射靶由平面靶和订状靶组成，圆......
用苯作源气体在一个微波电子回旋共振等离子体系统中沉积了含氢非晶碳薄膜 ,研究了沉积参数对膜的生长速率的影响。为了探索该种薄......
类金刚石(Diamond—like Carbon,简称DLC)薄膜,是一种性质类似于金刚石的薄膜,它硬度高、摩擦系数小、化学稳定性好,具有优良......
利用电子回旋共振等离子体辅助反应脉冲激光沉积的方法制备了氮化碳薄膜.成分分析显示,制备的薄膜主要由C和N两种元素组成,其中N的......
研制了一种高速率溅射的ECR等离子体装置。微波经过一段真空波导管，以反常波模式耦合输入共振腔，腔内溅射靶由平面靶和订状靶组成，圆......
等离子体刻蚀技术是集成电路工艺中图形转移的基本方法，随着集成电路变得越来越复杂以及关键尺寸越来越小，各向异性等离子体刻蚀的重......
本文在自主设计的ECR等离子体装置上开展了等离子体电子、离子参数的测量研究，并利用ECR等离子体对等离子体化学气相沉积（PCVD）金刚石......
本论文在系统总结了国内外GaN材料制备与器件工艺的研究历史、现状基础上，利用ECR-PEMOCVD系统在硅衬底上低温外延了GaN薄膜。论文......
该文主要研究的是用ECR微波等离子体对难粘的聚四氟塑料进行表面处理,以改善其表面粘接性能,提高其胶接强度的方法.在实验中,研究......
近年来,微波电子回旋共振(ECR)等离子体已成功地运用于表面处理、刻蚀和薄膜制备等微电子工业应用中,并用日益为世人所瞩目.该文采......
用微波电子回旋共振（ECR）等离子体化学气相沉积（CVD）技术和CHF_3、C_6H_6源气体的新组合沉积了F/C比在0.11-0.62之间的氟化非晶碳（α-C:......
该论文介绍了几种氮化物薄膜的低温合成和对氮化物薄膜的性质研究.低温合成制备优质的氮化物薄膜的关键是低温条件下化合物的形成......
本论文的研究对象为对固体的脉冲激光烧蚀(PulsedLaserAblation，PLA)产生的等离子体(简称PLA等离子体)和对气体的电子回旋共振(Elec......
本论文的研究对象为对固体的脉冲激光烧蚀(PulsedLaserAblation,PLA)产生的等离子体(简称PLA等离子体)和对气体的电子回旋共振(Ele......
氢在GaN薄膜制备工艺中扮演很重要的角色,氢主要有两个来源,一是载气氢,另一个来源是从TMG气源本身离解出来的氢产物。本文研究了......
利用电子回旋共振(ECR)微波放电等离子体对单晶硅表面进行了低温大面积氮化和氧化处理的探索，在低于80℃的温度下得到了均匀的厚度......
将磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜，其膜的沉积速率比普通ＥＣＲ溅射中所得到的速率大......
用苯作源气体在一个微波电子回旋共振等离子体系统中沉积了含氢非晶碳薄膜,研究了沉积参数对膜的生长速率的影响.为了探索该种薄膜......
提出了用微波电子回旋共振等离子体溅射法 (ECR)在石英晶体表面制备出性能优异的TiN薄膜 ,研究了TiN薄膜的性能以及作为液体黏度检......
利用最新自行研制的电扫描发射度探测系统,在ECR离子源上进行了一系列关于ECR离子源引出束流发射度的研究.这套电扫描发射度探测系......
采用静电探针技术对微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体进行了诊断,利用等离子体增强非平衡磁控溅射(PE-UMS)法在常温下制备了Zr-N......
研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置。采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜......
环形磁化系统（TOMAS）是一个简单的磁化环，它用微波产生的等离子体来研究壁处理方法。在TOMAS装置中，电子回旋共振等离子体是用频率为2.......
在真空环境下，用采集板模拟离子作用将电子束从ECR中和器中引出，实验研究ECR中和器结构以及工作参数对引出电子束流和中和器性能的影......
等离子体尤其是低温等离子体由于其一系列特殊的性质，广泛应用于薄膜沉积、微电路干法刻蚀、材料表面改性等方面。本文介绍了目前经......
蒋磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜，其膜的沉积速率比普通ＣＥＲ溅射中所得到地速率大得多......
在非对称磁镜场微波ECR等离子体中引入了磁电加热系统，研究了电极环大小、轴向位置以及双环加热对离子温度的影响。结果表明，大小合......
利用电子回旋共振（ＥＣＲ）微波放电等离子体对单晶硅表面进行了低温大面积氮化和氧化处理的探索，在低于８０℃的温度下得到了均匀的厚度约为７ｎｍ氮化......
采用电子回旋共振（ECR）等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积（CVD）金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体......
用微波电子回旋共振（ＥＣＲ）等离子体溅射法在常温下制备出优质的ＴｉＮ薄膜．采用静电探针技术，对ＥＣＲ等离子体进行了诊断，研究了等离子体参数与装置运行......
近年来,在低气压、低温等离子体研究和应用中的一个重要发展是微波电子回旋共振放电。由于它是一种无极放电,能够在低气压下产生高......
提出了用微波电子回旋共振等离子体溅射法（ECR）在石英晶体表面制备出性能优异的TiN薄膜，研究了TiN薄膜的性能以及作为液体黏度检测时......
发展了一种新型的微波电子回旋共振等离子体（ＥＣＲ）辅助反应蒸发沉积薄膜的方法，并且使用它成功地在低气压（１０＾－２Ｐａ）、低温基片（３０￣１００℃）上，不作后处理，直接制......
在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺......
In order to study the atomic oxygen corrosion of spacecraft materials in low earth orbit environment, an atomic oxygen s......
本文描述用硬X射线针孔成象法测量简单磁镜装置中ECR等离子体辐射特性的方法及其结果。这种非破坏性的成象法,直接显示了热电子等......
研究了用十甲基环五硅氧烷和三氟甲烷电子回旋共振等离子体沉积的掺FSiCOH低k薄膜中，CHF，／DMCPS比对薄膜结构、成分、介电性能、热稳......
低轨道航天器的空间等离子体环境主要为低温、低密度、等离子体。文章详细叙述了等离子体对航天器的影响及其两个ECR微波等离子体......
为了深刻理解微波电子回旋共振（ECR）等离子体的物理机制、瞬态过程以及空间分布特性，首先利用光栅光谱仪对ECR氮等离子体发射光谱进行......
