表面清洁处理相关论文
要想把氦、氖、氩、氪和氙等惰性气体变为固体是相当艰难的.若通过降温,则须在相当低的温度下才能实现.例如对于氪为-157℃,对氩......
本文对频率稳定性不良的石英谐振器进行了失效分析，并利用扫描电子显微镜观察了石英晶片电极银膜层的显微形貌，分析了石英晶片银膜层......
引 言 光刻是一种精密的表面加工技术,是由照相和化学腐蚀相结合,在集成电路和半导体器件表面修刻的关键工艺。它最初出现在印刷照......
近年来,随着高分子化合物用途的扩大,许多国家都在研究利用高分子化合物来改善现有水泥的性能,并由此制得许多新品种水泥,环氧树......
用ＵＰＳ和ＸＰＳ等表面分析方法，研究了ＣＨ＿３ＯＨ、ＣＯ和ＣＯ＿２等小分子在Ｐｄ（１１１１）单晶及其预氧化表面的吸附性质。室温下，ＣＨ＿３ＯＨ在清洁的Ｐｄ（１１１）表面以ＣＨ＿３Ｏ￣－的形态被吸附，部分分解为ＣＨ＿２；ＣＯ在Ｐｄ（１１１）表面首先......
本文叙述了一种比较新颖的整体式液体镓离子源的制备工艺及挂镓方法;测量了在不同温度下的电流-电压关系;以及在特定电压下,电流随......
在制备大功率整流器、可控硅、硅靶摄像管、核探测器和集成电路等方面中子嬗变掺杂(简称NTD)硅已经得到广泛应用.近来,GaAs等化合......
一、前言在半导体工业中,腐蚀技术除作为半导体表面清洁处理外,也作为无损伤加工的手段而得到广泛应用。在这种情况下,为改善器件......
近年来,在光电集成电路(OEIC)及高速电子集成电路的微加工中,对GaAs及有关的Ⅲ—Ⅴ族化合物半导休的干法蚀刻已进行了广泛的研究......
本文介绍了用电子束加热（１５００℃）及同时用氩离子溅射的方法进行金属Ｎｂ的表面清洁处理，处理结果良好．
In this paper, the surface treatment......
NEA活化实验是利用体单晶材料进行的,未经任何外延或真空解理手续。为确立活化工艺,特别是表面清洁处理规范,作了相应AES分析。借......
氩离子枪主要由离子源、加速电极、聚焦透镜和控制电源构成,可以产生并发射氩离子束,用于样品的表面清洁处理、表面刻蚀或深度分析......
使用自己研制的带有MBE系统的表面联合谱仪进行生长和研究GaAs/Si异质结。Si衬底经过重复氧化和去氧的化学腐蚀,随后热处理得到清......
