新型分子印迹聚合物的制备及其在样品前处理中的应用研究

来源 :中国科学院研究生院 中国科学院大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ffgooo208w
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分子印迹聚合物因其构效预订性、特异识别性和广泛适用性,在过去的三十年中得到了快速发展,成为人们普遍关注的热点。本文主要针对分子印迹聚合物存在的模板分子难以洗脱,印迹聚合物结合容量低、质量传递慢,应用于分子印迹的功能单体种类较少等问题,提出了几种新型分子印迹聚合物的制备方法。具体内容如下:   1活性沉淀聚合制备莠去津印迹聚合物用于食品中莠去津的浓缩富集。   将活性聚合中应用广泛的可逆加成断裂链转移聚合与分子印迹聚合物制备中的沉淀聚合相结合,通过活性沉淀聚合制备具有规则球形形貌、表面粗糙多孔的莠去津分子印迹聚合物,提高了分子印迹聚合物的结合容量和质量传递速率。该印迹聚合物理论最大结合容量为2.89 mg/g,而传统沉淀聚合法制备的印迹聚合物最大结合容量仅为1.53 mg/g。将所制备的新型莠去津分子印迹聚合物用于生菜、玉米加标样品中莠去津的浓缩富集,加标回收率在81.5%-100.9%。   2活性沉淀表面印迹制备莠去津纳米印迹聚合物粒子。   将活性沉淀聚合与二氧化硅表面印迹技术相结合,提出一种简单有效的表面印迹新方法:首先进行简单的一步表面修饰,将乙烯基双键引入到纳米二氧化硅表面,然后通过活性沉淀聚合,辅助两步升温法,制备壳层厚度可控的莠去津表面印迹聚合物。由于活性聚合物结构、分子量的可控性,制备的印迹聚合物形貌规则,粒径具有单分散性,其结合容量高于传统沉淀聚合物。将其用于生菜、玉米加标样品中莠去津的选择性浓缩富集,回收率在79.8%-93.4%。   3多孔莠去津分子印迹聚合物的制备及其用于固相萃取土壤样品中三嗪类除草剂。   将多孔聚合物与分子印迹相结合,制备多孔中空、单孔中空和多孔实心三种多孔结构莠去津印迹聚合物。由于多孔聚合物具有可控孔结构,有利于质量传递,所制备的多孔印迹聚合物在结合容量和质量传递速率上得到大幅度提高。将单孔中空结构莠去津印迹聚合物作为固相萃取填料用于土壤加标样品中五种三嗪类除草剂的高选择性浓缩富集,得到了理想的结果:对10μg L-1的加标样品,加标回收率为94.5-106%,相对标准偏差RSD1.17-4.24%。多孔分子印迹聚合物的制备,为复杂样品基质中三嗪类除草剂的分离富集提供一种有效方法。   4基于T-Hg2+-T特异结合制备新型汞离子印迹聚合物用于水体中汞离子浓缩富集。   基于胸腺嘧啶T与汞离子的T-Hg2+-T特异结合,设计合成含有T基团的新型单体T-IPTS,采用溶胶-凝胶法制备汞离子印迹聚合物,首次将T-Hg2+-T特异结合用于汞离子印迹聚合物的制备。鉴于T-Hg2+-T的高亲和性特异结合,所制备的汞离子印迹聚合物具有较高的选择性,其对Hg2+的结合容量远高于Co2+、Mn2+、Cd2+、Mg2+、Ca2+、Zn2+、Pb2+等。将所制备的新型汞离子印迹聚合物作为固相萃取填料用于水体中汞离子的浓缩富集,加标回收率在95.2%-116.3%。结果表明设计合成新型单体是提高印迹聚合物选择性,开拓分子印迹技术应用范围的有效途径。   5磁、光双重响应分子印迹聚合物的制备及其在咖啡因浓缩富集中的应用。   将刺激响应聚合物制备技术与分子印迹技术相结合,制备具有磁、光双重响应的咖啡因分子印迹聚合物。这种新型印迹材料具有磁性的核和光响应的壳,其光响应性的壳可以在光控下对模板分子咖啡因进行选择性控释。将双重响应印迹聚合物用于复杂样品中咖啡因的浓缩富集,磁性的核为快速分离提供基础,而其光响应的壳为模板分子的洗脱提供了有利条件。在对实际水样、茶水样品和可乐样品进行加标回收实验时,加标回收率在89.5-117.6%。这种磁、光双重响应分子印迹材料为发展简单高效的萃取方法提供了有利的支持。
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