TIALN薄膜相关论文
采用Ti 靶电弧离子镀与Al 靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,在不锈钢基体上制备了TiAlN 薄膜样品。并与电弧离子镀制备的TiN 薄膜在......
硬质涂层能显著提高刀具、模具的使用寿命和被加工零件的质量。TiAlN涂层因具有硬度高、热硬性好、抗高温氧化能力强、附着力强等......
采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢基体上制备了TiAlN薄膜,通过精密电子天平、纳米力学探针、划痕测试仪及扫描电镜等测试分析,研究......
采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢基体上制备了TiAlN薄膜,研究了沉积工艺参数对薄膜微观形貌、力学性能及耐腐蚀性能的影响规律,通......
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的TiAlN薄膜.用SEM,AFM,EDS,XRD等检测手段对......
利用磁过滤阴极电弧镀在硬质合金上沉积厚度约2~3μm的Ti Al N薄膜,并用MEVVA源离子对Ti Al N薄膜注入金属离子V+和Nb+。应用北京同......
采用双靶反应磁控溅射的方法在40Cr基体上制备了TiAlN薄膜和WTiN薄膜。用XRD,SEM,AFM等检测手段对薄膜的表面状态及结构等进行了表......
为了使4Cr13不锈钢表面性能得到更好的优化和获得镀膜最佳的偏压工艺,在不同的偏压工艺下,采用多弧离子镀技术和磁控溅射技术在4Cr......
综合介绍了目前国内外利用磁控溅射和电弧离子镀这两种工艺制备TiAlN薄膜以及影响TiAlN薄膜制备的工艺因索。着重分析了铝在TiAlN......
本文首先对类金刚石薄膜和TiAIN薄膜的研究背景、结构性能、制备方法、表征、应用以及生长机理进行了综述。在此基础上,将非平衡磁......
TiAlN具有硬度高、化学稳定性好、摩擦系数低、抗氧化温度高等优异性能。Al含量的不同会导致TiAlN薄膜晶体结构的变化,进而影响TiA......
低辐射薄膜玻璃因其能够反射红外线和紫外线,同时对可见光也有较好的透过率等优点,在建筑节能窗用玻璃中得到大量广泛的应用。为进一......
使用磁控溅射技术制备了TiAlN薄膜和ZnO薄膜。通过改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列Al含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜。在溅......
采用磁过滤阴极真空弧沉积技术在不同的真空室压强(N2流量)状态下制备TiAlN薄膜,讨论了N2流量对TiAlN薄膜各项性能的影响。并对薄......
采用非平衡磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiAlN薄膜。在400℃-800℃对试样进行氧化实验,利用XRD,SEM,精密电子天平等对TiAlN......
采用磁控溅射方法在硬质合金表面沉积TiAlN硬质薄膜,并在400~850℃的温度下进行氧化处理,通过XPS分析氧化后薄膜表面层的物质组成及......
采用中频非平衡磁控溅射离子镀设备在YG10硬质合金表面制备(Ti_(1-x)Al_x)N薄膜,运用X线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计和材......
利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜;电子探针分析结果表......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
钛合金具有比强度高、耐蚀性好、耐热性高等优点,已经广泛应用于飞机结构材料中,用于制造航空发动机风扇、压气机轮盘、叶片等重要......
向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能。采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜,通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)和原子力......
为了提高钬合金的耐磨性能,采用磁控溅射技术在TA19钛合金表面制备了TiAIN硬质薄膜。采用扫描电镜、能谱仪和X射线衍射分析了薄膜......
TiAlN薄膜具有硬度高、附着力强及热稳定性好等优良特性,被广泛用于涂层刀具中。钽(Ta)是一种硬度高、韧性好、熔点高的过渡金属元素......
研究利用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备TiAlN薄膜材料,采用XRD测试薄膜晶体结构,用UMT显微力学测试仪测试薄膜摩擦系数。在此基......
利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜;电子探针分析结果表......
采用磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术,在室温、钛合金和si(100)单晶表面制备了TiAlN薄膜.利用SEM、XRD、EDS和XPS等对薄膜的微观组......
采用磁控溅射方法在硬质合金表面沉积TiAlN硬质薄膜,并在400~850℃的温度下进行氧化处理,通过XPS分析氧化后薄膜表面层的物质组成及变......
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀的方法,在工具钢表面制备了TiAIN薄膜。运用EDS、XRD和SEM对薄膜的成分、组织结构和表面形貌进行了......
使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列A1含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜.在溅射过程,薄膜沉积速率和Al......
目的为进一步提高电弧离子镀TiAlN薄膜的摩擦磨损性能,研究添加元素Y对CrNi3MoVA钢表面电弧离子镀TiAlN薄膜微观组织结构、硬度、弹......
采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAIN薄膜试样.研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组......
讨论利用直线型过滤电弧制备TiAlN薄膜中,过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象,电子和离子的回流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行......
本课题以纯Ti靶和纯Al靶位靶材,利用反应磁控溅射的方式在9SiCr和玻璃基体上制备了二元氮化物薄膜TiN和三元氮化物薄膜TiAlN。通过......
为了提高PCrNi3Mo钢的耐磨性,利用电弧离子镀技术在其表面沉积了Ti(0.7)Al(0.3)N和Ti0.5Al0.5N薄膜,分析了沉积态和磨损态薄膜膜层的微......
采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利......
采用中频孪生磁控溅射技术,以Q235碳钢为基体,通过调整薄膜沉积过程中基体负偏压大小,制备TiAlN薄膜.采用原子力显微镜( AFM)观察薄膜表......
本文采用射频磁控溅射法在硬质合金钻头表面制备了TiAlN薄膜。XPS测试表明,膜层的主要成分为金属氮化物,Ti,Al原子个数比约为1:1;XRD分......
本文叙述了TiAlN薄膜的腐蚀机制,介绍了多层化及添加其它元素可获得具有更好抗腐蚀性能的薄膜材料,综述了这些薄膜抗腐蚀性能的研......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,通过调节Al靶电流,在不锈钢基体上制备了TiN薄膜和TiAlN薄膜样品,并在热......
目的在GCr15轴承钢和W18Cr4V高速钢基体上制备硬质耐磨的纳米TiAlN薄膜,以此来提高GCr15和W18Cr4V钢的使用寿命。方法采用直流反应......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
采用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术沉积TiAlN,TiCrAlN 薄膜和TiCrAlN/TiCrN 复合薄膜.采用扫描电镜(SEM)观察薄膜表面形貌和磨......
采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P(111)单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、三维轮廓仪、X射线衍......
采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢和单晶硅基片上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的......
采用空心阴极电子束辅助多弧离子镀的方式在WC基体上制备了TiAlN薄膜,讨论了电子束能量的大小对膜层组织形貌及摩擦学性能的影响。......